復(fù)合材料在對于膠帶上面的要求很高,一個根本的要點也就在于它的不確定性,有些膠帶在使用到它的身上時,或者是起到不能粘連,也或者是起到密封性不強的不足,如果是不能粘連的,則不能使用,而密封性不足的,不能達到使用的目的,因為之所以選擇使用膠帶,也正是因為它的密封性。
而且在很多工作的要求之下,也必須要讓它達到很強的密封性,而且我們也都知道,在復(fù)合材料施工的過程中,還有很多不同的環(huán)境,有些環(huán)境自然普通的膠帶也不能適應(yīng),比如高溫、再比如水等等,而在這樣的情況下,這種聚酰亞胺薄膜也都能達到很了的適應(yīng),因此,在復(fù)合材料需要使用膠帶的時候,它也正是最好的選擇。
涂膠聚酰亞胺薄膜在微電子器件、電路技術(shù)方面,隨著高集成度、超高速、超高頻 集成電路及器件的開發(fā),集成電路與器件的特征尺寸越來越精細, 加工尺寸已進人深亞微米、百納米甚至納米級。但要達到這個目 標,必須對半導(dǎo)體與集成電路行業(yè)用的化學(xué)材料,如光致抗蝕劑 (光刻膠)、高純試劑、特種氣體、封裝材料等提出更高的要求,使其 保持同步或超前發(fā)展。
光致抗蝕劑(光刻膠)的開發(fā),從g線((436 nm)向i線(365 nm)、準分子激光束( KrF, 248 nm和ArF, 193 nm)以及電子束、x射 線、離子束等一系列新型輻射敏感材料發(fā)展,重點是i線與電子束 化學(xué)放大抗蝕劑。
在高純試劑的發(fā)展方向上,重點進行適用于0. 2^-0.6 ,.cm工 藝技術(shù)的超凈高純試劑的研究開發(fā),同時開展0. 09-0. 2 5m工 藝技術(shù)加工所需超凈高純試劑的前期研究。